国产EUV光刻机有望今年问世？

结合多方消息推测，国产EUV光刻机原型机最快今年下半年可能会出现。4月29号南华早报报道，林楠博士团队在EUV光刻机技术上有新突破，其研发的固体激光器电光转换效率达国际顶尖水平，有望成为新一代光刻光源的驱动光源。EUV光刻机研制难度极大，全球只有荷兰阿斯麦能制造。其研发难点主要有光源、光学系统和设备制造。

光源突破是关键一步

今年1月哈工大搞定了13.5纳米极紫外光源，实现了从无到有的突破。但仅有光源还不够，还需稳定输出该波长的极紫外光，这就需要光学系统支持，而林楠团队的突破点就在此。

设备制造也取得进展

EUV光刻机内部有超10万个精密零件，需要庞大供应链配合。华为参与的EUV光刻机制造工作已进入测试阶段，这表明我国在设备制造领域也接近尾声。从研发历程看，我国采用分别突破不同单元技术的方式，取得多点开花效果，成功是必然的。